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随着微纳加工技术进步，离子溅射技术已突破传统领域。离子溅射系统因其高精度、可控性强等特点，广泛应用于多个工业及科研领域。以下是其核心应用方向及相关技术特点：
一、半导体与微电子制造。
集成电路与器件：用于制备导电层(如铜、铝)、阻挡层(如氮化钛)和粘附层，提升器件性能及可靠性。
微纳结构加工：聚焦离子束(FIB)溅射可实现微米/纳米级结构的精确刻蚀与沉积，应用于半导体器件微调及纳米材料制备。
二、新能源领域。
光伏电池：通过溅射镀膜制备钙钛矿电池的吸收层与窗口层，优化光电转换效率;同时可沉积超导薄膜用于能量存储系统。
锂离子与固态电池：在电极、电解质层等关键部件上形成致密薄膜，提升能量密度和循环稳定性。
三、光学与显示技术。
光学薄膜：制备增透膜、滤光片及低辐射玻璃，应用于激光器、光学镜头及建筑玻璃等领域。
透明导电层： 溅射氧化铟锡(ITO)薄膜用于液晶显示器(LCD)和有机发光二极管(OLED)屏幕。
四、生物医疗与材料科学。
生物传感器与医疗器械：沉积生物相容性薄膜(如金属或导电聚合物)，增强生物分子检测灵敏度或改善器械表面性能45。
表面改性：通过溅射提升材料硬度、耐磨性和抗腐蚀性。例如工具涂层或航空材料优化。
五、工业精密加工
表面抛光与成形：
利用离子溅射对精密零件进行无接触式表面处理，减少机械应力损伤。
技术发展趋势：
未来离子溅射系统将向柔性电子(如可穿戴设备)、量子材料(如拓扑绝缘体)及纳米器件(如MEMS)等方向拓展，推动高精度制造技术革新。
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